高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV
产品简介： 高真空快速 CVD 系统 OTF-1200X-4-RTP-C3HV 是由 4″RTP 炉、三通道混气系统和高真空机组 组成，可进行半导体基片、太阳能电池及其它样品（尺寸可达 3″ ）的退火，并采用 10KW 的红外灯进行加 热，最快升温速度可达 120℃/s，配有 RS485 接口，可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。
产品型号 | 高真空快速 CVD 系统 OTF-1200X-4-RTP-C3HV |
安装条件 | 本设备要求在海拔 1000m 以下， 温度 25℃±15℃ ，湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。 |
1、水：不需要 | |
2、电： AC220V 50Hz，必须有良好接地 | |
3、气：设备腔室内需充注气体，需自备气瓶气源 | |
4、工作台： 尺寸 1600mm×600mm×700mm ，承重 150kg 以上 5、通风装置：需要 | |
主要特点 | 1 、双层 Al2O3 纤维钢构，无需水冷或风冷。 |
2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层，可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。 | |
3 、PID 控制器， 可以设置 30 段升降温程序，并设有过热保护和断偶功能。 | |
4 、已通过 CE 认证。 | |
技术参数 | 1 、电源： 单相 208V-240V AC 50Hz/60Hz 10KW |
2、石英管： 外径 Ø110mm ，内径 Ø103mm ，长 380mm | |
3、加热元件： 8 根红外灯管， 灯丝长 200mm ，丝圈 Ø10mm ，灯长 300mm |
4、加热区： 300mm 5 、工作温度： 最高温度 1100℃ | |
6 、控温精度：±0.5℃ 7、最高升温速度： RT-800℃时为 50℃/s ，800℃-1000℃时为 10℃/s 8、温控仪：可控硅（ SCR）PID 自动控制 9 、真空法兰： 不锈钢，带有水冷接口和针阀，双层高温 O 型圈密封，长时间在>900℃条件下 运行必须采用水冷， 循环水流量为 0.5m3/hr 10、真空度： 10-2torr （机械泵）， 10-5torr （分子泵） 11 、质量流量计： 3 个， MFC1 范围0-100sccm ，MFC2 范围0-200sccm ，MFC3 范围0-500sccm， 精度 1±%FS 12、混气罐： Ø80mm×120mm | |
产品规格 | 尺寸： 炉体 760mm×330mm×530mm ，真空混气系统 600mm×600mm×597mm 重量： 炉体 45kg ，真空混气系统 75kg |
