OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜（CSS）炉
产品简介： OTF-1200X-RTP-II 近距离蒸发镀膜（CSS）炉是一款快速蒸发管式炉， 专门用于 PVD 或 CSS 法制作薄膜； 其炉管外径为 11″ ，炉管内载样盘可放置 3″ 的圆形或 2″×2″的方形基片； OTF-1200X-RTP-II 近距离蒸发镀膜（ CSS ）炉加热元件为两组红外灯管， 分别安装在腔体顶端和底部， 升温速率高达 20℃/s ，可迅速使炉腔内温度升高； 冷却速率： >10℃/s ，可在镀膜后使样品快速降温； 温控系统采用 PID30 段程序化控制， 控温精度为±1℃， 并且仪器面板上带有 RS485 接口， 若仪表内配有控温软件， 就可将升 温程序和曲线导出。
产品名称 | OTF-1200X-RTP-II 近距离蒸发镀膜（CSS）炉 |
产品型号 | OTF-1200X-RTP-II |
安装条件 | 本设备要求在海拔 1000m 以下， 温度 25℃±15℃ ，湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：设备需选配自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电： AC220V 50Hz（20A 空气开关），必须有良好接地 3 、气： 设备腔室内需充注氩气（纯度 99.99%以上） ，需自备氩气气瓶（自带 Ø6mm 双卡套接 头） 4、工作台：设备为落地式， 占地面积 1m2 以上 5、通风装置：需要 |
主要特点 | 1、为了减小热辐射和达到快速冷却的效果，加热元件被嵌在水冷机构上。 |
2 、紧贴顶部加热元件上装有一氮化铝基片（Ø76mm×0.5mm），使得样品基片上的温度更加 |
均匀。 3 、3″的石墨坩埚可放于底部加热元件上，用于盛放蒸发料。 4 、真空法兰通过两个硅胶 O 型圈进行密封，通过机械泵其腔内真空度可达 10-2torr ，通过分子 泵真空度可达 10-5torr。 5、两个真空法兰都可以通过手动操作进行上下移动。 6、一个数字式真空显示计安装在法兰顶部，可以精 确测量腔内真空度。 | |
技术参数 | 1 、电源： 单相 AC208V-240V （需 20A 的空气开关） 2、真空腔体：高纯石英管， 外径 280mm ，内径 275mm ，高 229mm |
3、加热元件： 两组 IR 红外灯管， 额定功率 800W ，总功率 1600W 4、热电偶： S 型热电偶 2 个，分别安装于上下法兰上 5、工作温度：两个加热区域单独工作的极限温度≤650℃，两加热区域极限温差≤350℃ 6、加热速率： >8℃/s 7、冷却速率： >10℃/s（600℃-100℃） 8、真空法兰： 316 不锈钢制作， 配有 1 个 KF-25 接口、 2 个 1/4″软管接头 9、真空计：数字式真空显示计 | |
可选配件 | 1 、PC 控温软件 2、两路混气系统 |
3、多路浮子混气系统 4、多路质子混气系统 5、真空泵 6、水冷机 |
